真空氣氛爐的結構介紹

　　真空氣氛爐是把真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術，真空熱處理所處的真空環境指的是低于個大氣壓的氣氛環境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。

　　真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體(如氬)等各種氣氛。具有溫度控制準確，達到高溫度下材料的精準控制。氣氛控制自由，利用氣氛調控系統，可在爐內調整出符合不同材料的氣氛。無氧處理效果優異，可以避免加熱材料的氧化。批量加工效率高，一次可同時加工多個材料。

　　真空氣氛爐通常由爐膛、加熱元件、保溫材料、真空泵組、氣體控制系統和溫度控制系統等部分組成。其中，爐膛用于容納待處理材料，加熱元件通常采用電阻加熱器，通過電能將爐腔加熱至所需溫度。真空泵組用于排除爐腔內的氣體，實現真空狀態。氣體控制系統用于控制爐腔內的氣氛環境，而溫度控制系統則用于監控和調節爐腔溫度。

　　在使用時應嚴格按照操作規程進行操作，避免誤操作導致設備損壞或安全事故。確保設備處于良好的工作狀態，定期檢查和維護設備。